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真空鍍膜系統

1.名稱:真空濺鍍(sputter)鍍金系統 2.功能:電極製作or應用於超導/磁性/光電等元件

1.名稱:真空濺鍍(Sputter)系統 2.功能:Al-doped ZnO薄膜/LaSrCuO巨磁阻薄膜成長 3.規格:真空5x10E-5 torr 工作壓力:10E-3~10E-1 torr 工作溫度:~700C

 

1.名稱:真空濺鍍系統 2.功能:高溫超導YBCO薄膜成長

1.名稱:濺鍍腔體

2.功能:大面積(4x4cm^2)NdBaCuO 薄膜成長 3.規格:真空~10E-3 torr 工作壓力:0.3 ~ 2 torr, 工作溫度:~700C

1.名稱:雷射蒸鍍系統 2.功能:高品質YBaCuO薄膜,LaCaMnO薄膜或多層膜樣品製作.

3.規格:真空~10E-3 torr,工作壓力 ~10E-1 torr

工作溫度:700C ,雷射規格:KrF laser 248nm,Pulse energy ~ 100mJ ,Repetition rate:10 Hz

 

1.名稱:高真空濺鍍(Sputter)與離子蝕刻系統 2.功能:Al和FeSeTe薄膜 ,離子束蝕刻 3.規格:真空5x10E-5 torr ,鍍膜工作壓力:10E-3~10E-1 torr, 鍍膜工作溫度:~600C

 

量測系統

高溫高壓燒結系統

1.名稱:向量網路分析儀 2.功能:高頻微波元件特性分析 3.規格:分析頻段 ~3MHz ~ 40 GHz

1.名稱:超導量子干涉儀(MPMS SQUID),科技部貴重儀器 2.功能:磁性(M-T,M-H)量測 電性 Hall efffect,I-V 特性量測. 3.規格:磁場: 0~7T 溫度:2~350K

 

1.名稱:高壓高溫合成爐 2.功能:高密度靶材製作,特殊材料合成

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1.名稱:MPMS 3 SQUID 2.功能:測量樣品磁性

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